技術(shù)文章
TECHNICAL ARTICLESCVD試驗(yàn)CVD(ChemicalVaporDeposition,化學(xué)氣相淀積),指把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入反應(yīng)室,在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過(guò)程。在超大規(guī)模集成電路中很多薄膜都是采用CVD方法制備。經(jīng)過(guò)CVD處理后,表面處理膜密著性約提高30%,防止高強(qiáng)力鋼的彎曲,拉伸等成形時(shí)產(chǎn)生的刮痕。CVD特點(diǎn):淀積溫度低,薄膜成份易控,膜厚與淀積時(shí)間成正比,均勻性,重復(fù)性好,臺(tái)階覆蓋性優(yōu)良。
真空熱處理爐的節(jié)能技術(shù)空熱處理爐是一種先進(jìn)的熱處理設(shè)備可以進(jìn)行金屬材料和工件的真空加熱、淬火、回火、退火、滲碳、滲氮、加壓氣淬等各種熱處理,也可進(jìn)行粉未冶金燒結(jié)、航空航天工件釬焊等,真空熱處理過(guò)程能使被處理材料和工件性能顯著提高,材料得到充分利用。**因而,廣義上真空爐是一種明顯節(jié)省單位能的先進(jìn)的熱處理設(shè)備。選用適當(dāng)?shù)臓t爐室內(nèi)加熱元件和隔熱材料,對(duì)于減少爐子本身能耗、提高加熱效率是有重要意義的。加熱元件一般情況可采用鎳鉻合金或鐵鉻合金,工兒溫度要求1000℃以上時(shí),應(yīng)采用鉬、...
感應(yīng)加熱技術(shù)的多種應(yīng)用感應(yīng)加熱是利用電磁感應(yīng)的方法使被加熱的材料(即工件)的內(nèi)部產(chǎn)生電流,依靠這些渦流的能量達(dá)到加熱目的。感應(yīng)加熱系統(tǒng)的基本組成包括感應(yīng)線圈、交流電源和工件。根據(jù)加熱對(duì)象不同,可以把線圈制作成不同的外形。線圈和電源相連,電源為線圈提供交變電流,流過(guò)線圈的交變電流產(chǎn)生一個(gè)通過(guò)工件的交變磁場(chǎng),該磁場(chǎng)使工件產(chǎn)生渦流來(lái)加熱。感應(yīng)加熱是伴隨著汽車工業(yè)和拖拉機(jī)工業(yè)的誕生而起步的。由于其具有加熱效率高、速度快、可控性好及易于實(shí)現(xiàn)機(jī)械化和自動(dòng)化等優(yōu)點(diǎn)。目前常用的zui有效的熱...
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